ASML株が7月27日に5.80%安、中国のDUV進展報道で競争リスク懸念が再燃

ASMLは、中国が国内の深紫外線（DUV）リソグラフィで進展したとの報道を受けて、長期的な競争リスクに関する懸念が再燃し、投資家がASML'sの装置フランチャイズに付与するプレミアムが圧縮される中で売られた。この動きは、半導体ハードウェア全般の下落によって強化されており、個別企業の業績やガイダンスの見直しというよりも、チップ製造装置へのエクスポージャー全体でリスクを落とす動きであることを示唆している。短期的な焦点は、セクターが安定するかどうか、そして中国のDUVを巡るナラティブが確認を得るかどうかに移る。